㈠ 微弧氧化的基本簡介
在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜,至今還沒有一個合理的模型能全面描述陶瓷層的形成。
微弧氧化工藝將工作區域由普通陽極氧化的法拉第區域引入到高壓放電區域，克服了硬質陽極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結合牢固，結構緻密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。該技術具有操作簡單和易於實現膜層功能調節的特點，而且工藝不復雜，不造成環境污染，是一項全新的綠色環保型材料表面處理技術，在航空航天、機械、電子、裝飾等領域具有廣闊的應用前景。
㈡ 微弧氧化的影響因素
1.工件材質及表面狀態
（1）微弧氧化對鋁材要求不高，不管是含銅或是含硅的難以陽極氧化鋁合金，只要閥金屬比例佔到40%以上，均可用於微弧氧化，且能得到理想膜層。
（2）表面狀態一般不需要經過拋光處理，對於粗糙的表面，經過微弧氧化，可修復的平整光滑；對於粗糙度低（即光滑）的表面，則會增加粗糙度。
2.液體成分對氧化造成的影響
電解液成分是得到合格膜層的關鍵因素。微弧氧化液一般選用含有一定金屬或非金屬氧化物鹼性鹽溶液，如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等。在相同的微弧電解電壓下，電解質濃度越大，成膜速度就越快，溶液溫度上升越慢，反之，成膜速度較慢，溶液溫度上升較快。
3.溫度對微弧氧化的影響
微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會形成水氣。一般建議在20—60度。由於微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換製冷系統以控制槽液溫度。
4.時間對微弧氧化的影響
微弧氧化時間一般控制在10～60min。氧化時間越長，膜的緻密性越好，但其粗糙度也增加。
5.陰極材料
陰極材料可選用不銹鋼，碳鋼，鎳等，可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。
6.後處理對微弧氧化的影響
微弧氧化過後，工件可不經過任何處理直接使用，也可進行封閉，電泳，拋光等後續處理。
㈢ 鋁的微弧氧化，硫酸銅作為著色劑 生成陶瓷膜的有色成分是啥啊
】：鋁是自然界中分布最廣的金屬元素,它的物理、力學和加工性能非常優異,已經被廣泛應用於日常生活的各個領域,但是目前我們所使用的鋁及其合金製品的顏色過於單一,僅僅有白色、黑色等比較簡單的顏色,影響了其在裝飾領域和在光學設備方面的應用,還遠遠不能滿足人們的需求。因此使鋁及其合金材料具有更多的顏色以獲得色彩豐富、絢麗多姿的產品,是一個很有應用前景的課題。而通過微弧氧化技術制備出來的著色膜層,不但具有優良的耐磨耐蝕性能,還具有顏色多樣、色澤穩定的特點,可以廣泛應用於汽車、機械、航天、裝飾等行業。 本文採用LY12鋁合金作為實驗的基體材料。向電解液中添加不同的著色劑,通過微弧氧化的方法在其表面產生一層顯色陶瓷膜。研究了著色劑對膜層顏色的影響,並對工藝參數進行了優化。使用TT240數字式渦流測厚儀對微弧氧化膜的厚度進行了測量;採用OLS3000型激光共聚焦顯微鏡和德國卡爾蔡司(Carl Zeiss Jena)公司生產的EVO 18型掃描電子顯微鏡,檢測微弧氧化膜層的表面微觀形貌、三維形貌、孔徑和孔深;微弧氧化膜層的化學成分採用英國產牛津X-Max能譜儀測定;微弧氧化膜層的物相組成用X射線衍射儀進行分析;採用MATLAB軟體對微弧氧化膜層表面的掃描電鏡照片進行了定量分析;採用表面粗糙度測量儀測量微弧氧化陶瓷膜層的表面粗糙度;通過浸泡腐蝕試驗和電化學腐蝕試驗對膜層的耐腐蝕性進行了表徵。確定了膜層著色劑的最佳含量和能量參數,並得出以下結論: (1)微弧氧化綠色陶瓷膜的最佳電解液配方及能量參數: 電解液配方及著色劑含量:9g/L Na_2SiO_3 + 4g/L NaOH + 2g/L EDTA-Na_2 +2.0g/L K_2Cr_2O_4,電流密度7A/dm~2,占空比30%,氧化時間9min~13min,脈沖頻率550Hz~850Hz。 (2)微弧氧化棕色陶瓷膜的最佳電解液配方及能量參數: 電解液配方及著色劑含量:9g/L Na_2SiO_3 + 4g/L NaOH + 2g/L EDTA-Na_2 +1.5g/L CuSO_4,電流密度5A/dm~2,占空比20%~30%,氧化時間12min,脈沖頻率550Hz~850Hz。 (3)向電解液中添加重鉻酸鉀制備微弧氧化綠色陶瓷膜。沒有著色劑時,制備出的膜層為白色,而向電解液中加入K_2Cr_2O_4之後,膜層開始顯現出綠色。隨著K_2Cr_2O_4濃度的上升,膜層顏色逐漸加深。對綠色膜層進行能譜分析,確認Cr元素的加入使得膜層變為綠色。隨著著色劑濃度的提高,膜層表面的孔洞變大,孔隙率增加,耐腐蝕性能提高。 (4)研究了電流密度對微弧氧化綠色陶瓷膜的影響。隨著電流密度的增加,膜層變厚,顏色變深,表面逐漸粗糙,孔洞數量減少,孔徑和孔深都增大,孔隙率也升高。當電流密度很小或者很大時,膜層的耐蝕性能都不好。 (5)研究了脈沖頻率對微弧氧化綠色陶瓷膜的影響。隨著脈沖頻率的增加,膜層變薄,顏色變淺,表面越來越光滑。低頻率下製得的膜層表面孔洞體積較小,熔融顆粒較多,孔隙率也大,膜層表面凹凸不平。通過加大頻率,可以降低孔洞體積,膜層變得均勻光滑。 (6)向電解液中添加硫酸銅制備微弧氧化棕色陶瓷膜。沒有著色劑時,制備出的膜層為白色,向電解液中加入CuSO_4之後,膜層開始顯現出棕色,且隨著CuSO_4濃度的上升,膜層顏色逐漸加深,著色劑濃度過高,會使膜層表面產生燒蝕。對棕色膜層進行能譜分析,確認Cu元素的加入使得膜層變為棕色。隨著著色劑濃度的提高,膜層表面的孔洞的平均孔徑和孔深變大,孔隙率增加,膜層越來越粗糙,膜層的耐蝕性先增加後降低。 (7)研究了氧化時間對微弧氧化棕色陶瓷膜的影響。當氧化時間延長時,膜層的顏色變深,厚度變厚,孔洞數量減少,體積增大,孔隙率增加,表面越來越粗糙,起伏的情況也加劇,其耐蝕性隨時間的增加先變強後變弱。 (8)研究了占空比對微弧氧化棕色陶瓷膜的影響。膜層顏色隨占空比的增加先變淺後變深,膜層厚度先減少後增加,孔洞體積先變小後變大,對其耐腐蝕性進行了檢測。當占空比過小或過大時,膜層的腐蝕速率非常大,膜層的緻密性差,性能不好。
㈣ 陽極氧化與微弧氧化 技術原理有什麼不同
在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜,至今還沒有一個合理的模型能全面描述陶瓷層的形成。
微弧氧化工藝將工作區域由普通陽極氧化的法拉第區域引入到高壓放電區域，克服了硬質陽極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結合牢固，結構緻密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。該技術具有操作簡單和易於實現膜層功能調節的特點，而且工藝不復雜，不造成環境污染，是一項全新的綠色環保型材料表面處理技術，在航空航天、機械、電子、裝飾等領域具有廣闊的應用前景。
㈤ 如何對鎂合金錶面進行微弧氧化使其膜層為黑色
微弧氧化(Microarc oxidation，MAO)又稱微等離子體氧化(Microplasma oxidation, MPO)，是通過電解液與相應電參數的組合，在鋁、鎂、鈦及其合金錶面依靠弧光放電產生的瞬時高溫高壓作用，生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜,至今還沒有一個合理的模型能全面描述陶瓷層的形成。
㈥ 微弧氧化為什麼可以做出不同顏色的膜
微弧氧化(Microarc oxidation,MAO)又稱微等離子體氧化(Microplasma oxidation,MPO),是通過電解液與相應電參數的組合,在鋁、鎂、鈦及其合金錶面依靠弧光放電產生的瞬時高溫高壓作用,生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷...
㈦ 什麼是微弧氧化
微弧氧化(Microarc oxidation，MAO)又稱微等離子體氧化(Microplasma oxidation, MPO)，是通過電解液與相應電參數的組合，在鋁、鎂、鈦及其合金錶面依靠弧光放電產生的瞬時高溫高壓作用，生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜,至今還沒有一個合理的模型能全面描述陶瓷層的形成。 微弧氧化工藝將工作區域由普通陽極氧化的法拉第區域引入到高壓放電區域，克服了硬質陽極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結合牢固，結構緻密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。該技術具有操作簡單和易於實現膜層功能調節的特點，而且工藝不復雜，不造成環境污染，是一項全新的綠色環保型材料表面處理技術，在航空航天、機械、電子、裝飾等領域具有廣闊的應用前景。 微弧氧化技術的原理及特點： 微弧氧化或微等離子體表面陶瓷化技術,是指在普通陽極氧化的基礎上，利用弧光放電增強並激活在陽極上發生的反應，從而在以鋁、鈦、鎂金屬及其合金為材料的工件表面形成優質的強化陶瓷膜的方法，是通過用專用的微弧氧化電源在工件上施加電壓，使工件表面的金屬與電解質溶液相互作用，在工件表面形成微弧放電，在高溫、電場等因素的作用下，金屬表面形成陶瓷膜，達到工件表面強化的目的。 微弧氧化技術的突出特點是：（1）大幅度地提高了材料的表面硬度，顯微硬度在1000至2000HV，最高可達3000HV，可與硬質合金相媲美，大大超過熱處理後的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度；（2）良好的耐磨損性能；（3）良好的耐熱性及抗腐蝕性。這從根本上克服了鋁、鎂、鈦合金材料在應用中的缺點，因此該技術有廣闊的應用前景；（4）有良好的絕緣性能，絕緣電阻可達100MΩ。（5）溶液為環保型，符合環保排放要求。（6）工藝穩定可靠,設備簡單.(7)反應在常溫下進行，操作方便，易於掌握。（8）基體原位生長陶瓷膜，結合牢固,陶瓷膜緻密均勻。 微弧氧化所需設備： 1、輸入電源： 微弧氧化電源
採用三項380V電壓。 2、微弧氧化電源 因電壓要求較高(一般在510—700V之間)，需專門定製。通常配備硅變壓器。 電源輸出電壓：0—750V可調 電源輸出最大電流：5A、10A、30A、50A、100A等可選。 3、微弧氧化槽及配套設施 槽體可選用PP、PVC等材質，外套不銹鋼加固。可外加冷卻設施或配冷卻內膽。 4、掛具及陰極材料 掛具可選用鋁或鋁合金材質，陰極材料選用不溶性金屬材料，推薦不銹鋼。 微弧氧化槽液： 微弧氧化主要針對鋁、鎂、鈦等材質。鋁鈦可選用同一種液體。 1.氧化液密度：不同液體有不同比重，大體比重在1.0—1.1不等。 2.氧化液工作電壓：400V—750V。 3.電流密度：液體不同，工件電流密度不同。大體約：每平方分米0.01—0.1安培。但也有大電流情況出現，且超過每平方分米8安培。 4.微弧氧化時間：10—60分鍾，時間越長，膜層越緻密，但粗糙度也增加。 5.液體酸鹼度：鹼性，PH通常為8—13 6.微弧氧化工藝流程： 去油 ---- 水洗 ---- 微弧氧化 ---- 純水洗 ---- 封閉 微弧氧化工作影響因素 1.工件材質及表面狀態 （1）微弧氧化對鋁材要求不高，不管是含銅或是含硅的難以陽極氧化鋁合金，均可用於微弧氧化，且能得到理想膜層。 （2）表面狀態一般不需要經過拋光處理，對於粗糙的表面，經過微弧氧化，可修復的平整光滑；對於粗糙度低（即光滑）的表面，則會增加粗糙度。 2.液體成分對氧化造成的影響 電解液成分是得到合格膜層的關鍵因素。微弧氧化液一般選用含有一定金屬或非金屬氧化物鹼性鹽溶液，如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等。在相同的微弧電解電壓下，電解質濃度越大，成膜速度就越快，溶液溫度上升越慢，反之，成膜速度較慢，溶液溫度上升較快。 4.溫度對微弧氧化的影響 微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會形成水氣。一般建議在20—60度。由於微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換製冷系統以控制槽液溫度。 5.時間對微弧氧化的影響 微弧氧化時間一般控制在10～60min。氧化時間越長，膜的緻密性越好，但其粗糙度也增加。 6.陰極材料 陰極材料可選用不銹鋼，碳鋼，鎳等，可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。 7.後處理對微弧氧化的影響 微弧氧化過後，工件可不經過任務處理直接使用，也可進行封閉，電泳，拋光等後續處理。 優缺點及使用范圍 採用微弧氧化技術對鋁及其合金材料進行表面強化處理，具有工藝過程簡單，佔地面積小，處理能力強，生產效率高，適用於大工業生產等優點。微弧氧化電解液不含有毒物質和重金屬元素，電解液抗污染能力強和再生重復使用率高，因而對環境污染小，滿足優質清潔生產的需要，也符合我國可持續發展戰略的需要。微弧氧化處理後的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高（HV＞1200），耐蝕性強（CASS鹽霧試驗＞480h），絕緣性好（膜阻＞100MΩ），膜層與基底金屬結合力強，並具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化技術工藝處理能力強，可通過改變工藝參數獲取具有不同特性的氧化膜層以滿足不同目的的需要；也可通過改變或調節電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現不同顏色；還可採用不同的電解液對同一工件進行多次微弧氧化處理，以獲取具有多層不同性質的陶瓷氧化膜層。 由於微弧氧化技術具有上述優點和特點，因此在機械，汽車，國防，電子，航天航空及建築民用等工業領域有著極其廣泛的應用前景。主要可用於對耐磨、耐蝕、耐熱沖擊、高絕緣等性能有特殊要求的鋁基零部件的表面強化處理；同時也可用於建築和民用工業中對裝飾性和耐磨耐蝕要求高的鋁基材的表面處理；還可用於常規陽極氧化不能處理的特殊鋁基合金材料的表面強化處理。例如，汽車等各車輛的鋁基活塞，活塞座，汽缸及其他鋁基零部件；機械、化工工業中的各種鋁基模具，各種鋁罐的內壁，飛機製造中的各種鋁基零部件如貨倉地板，滾棒，導軌等；以及民用工業中各種鋁基五金產品，健身器材等。 微弧氧化技術目前仍存在一些不足之處，如工藝參數和配套設備的研究需進一步完善；氧化電壓較常規鋁陽極氧化電壓高得多，操作時要做好安全保護措施；以及電解液溫度上升較快，需配備較大容量的製冷和熱交換設備。
㈧ 微弧氧化的試樣怎麼磨
微弧氧化對於試樣的前處理要求並不嚴格，去污除油即可，當然試樣原始面光潔度高的話，相同厚度膜層的表面也要光些，另外，做過微弧氧化的試樣也是可以拋的，只是膜層厚度不能太薄，微弧氧化膜層的硬度比較高，對其拋光還是可以做的。
㈨ 微弧氧化後要染黑嗎
微弧氧化，有沒有可以做黑色的
微弧氧化(Microarc oxidation，MAO)又稱微等離子體氧化(Microplasma oxidation, MPO)，是通過電解液與相應電參數的組合，在鋁、鎂、鈦及其合金錶面依靠弧光放電產生的瞬時高溫高壓作用，生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。
微弧氧化(Microarc oxidation，MAO)又稱微等離子體氧化(Microplasma oxidation, MPO)，是通過電解液與相應電參數的組合，在鋁、鎂、鈦及其合金錶面依靠弧光放電產生的瞬時高溫高壓作用，生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜,至今還沒有一個合理的模型能全面描述陶瓷層的形成。
㈩ 微弧氧化的使用范圍
採用微弧氧化技術對鋁及其合金材料進行表面強化處理，具有工藝過程簡單，佔地面積小，處理能力強，生產效率高，適用於大工業生產等優點。微弧氧化電解液不含有毒物質和重金屬元素，電解液抗污染能力強和再生重復使用率高，因而對環境污染小，滿足優質清潔生產的需要，也符合我國可持續發展戰略的需要。微弧氧化處理後的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高（HV>1200），耐蝕性強（CASS鹽霧試驗>480h），絕緣性好（膜阻>100MΩ），膜層與基底金屬結合力強，並具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化技術工藝處理能力強，可通過改變工藝參數獲取具有不同特性的氧化膜層以滿足不同目的的需要；也可通過改變或調節電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現不同顏色；還可採用不同的電解液對同一工件進行多次微弧氧化處理，以獲取具有多層不同性質的陶瓷氧化膜層。
由於微弧氧化技術具有上述優點和特點，因此在機械，汽車，國防，電子，航天航空及建築民用等工業領域有著極其廣泛的應用前景。主要可用於對耐磨、耐蝕、耐熱沖擊、高絕緣等性能有特殊要求的鋁基零部件的表面強化處理；同時也可用於建築和民用工業中對裝飾性和耐磨耐蝕要求高的鋁基材的表面處理；還可用於常規陽極氧化不能處理的特殊鋁基合金材料的表面強化處理。例如，汽車等各車輛的鋁基活塞，活塞座，汽缸及其他鋁基零部件；機械、化工工業中的各種鋁基模具，各種鋁罐的內壁，飛機製造中的各種鋁基零部件如貨倉地板，滾棒，導軌等；以及民用工業中各種鋁基五金產品，健身器材等。
微弧氧化技術目前仍存在一些不足之處，如工藝參數和配套設備的研究需進一步完善；氧化電壓較常規鋁陽極氧化電壓高得多，操作時要做好安全保護措施；以及電解液溫度上升較快，需配備較大容量的製冷和熱交換設備。